Роскошная насыщенная пенка для очищения лица Future Solution LX Extra Rich создана благодаря более чем 40-летним генетическим исследованиям, лежащих в основе обновленной линии Future Solution LX.Удаляет загрязнения и улучшает текстуру. Впитывающие влагу ингредиенты создают защитную увлажняющую плёнку.Придает естественную гладкость и неповторимое ощущение свежести.Подготавливает к последующим этапам ежедневного ухода, позволяя максимально раскрыть эффективность всех продуктов линии Future Solution LX.Изысканная текстура мягко очищает, обволакивая нежной пеной с мельчайшими пузырьками.Не пересушивает и сохраняет ее естественный водный баланс. Активные компоненты:• Экстракт японского растения Enmei (прутьевик) — улучшает состояние кожи, помогает сохранить естественный уровень увлажнения после очищения• NMT (N метилтаурин) – эффективно устраняет загрязнения и помогает удерживать влагу, придавая шелковистую гладкость
SHISEIDO
